发布时间:2025-02-14 18:03:02
电铸结合剂
加工对象: Silicon wafer, Compound semiconductor wafers (GaAs, GaP, etc.), Oxide wafers (LiTaO3, etc.), etc
运用新开发的集中度控制技术,开发出了5个等级的集中度系列产品。通过集中度的细分化,兼备了加工品质高(特别是背面崩缺-chipping)和使用寿命长的新型切割刀片。
可满足各种加工需求的5个等级集中度的系列产品
缩短预切割时间,并采用了降低晶粒飞溅及破损的技术
ZH05扩大了集中度的选择范围,可更加准确地满足用户的各种加工需求。此外,还有望缩短预切割时间。